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自動スクリーン印刷機導入!!!2022年4月

今まで、当事業保有の印刷機ではスクリーン枠サイズ□650mmまでしか対応できなかったのですが、新たに□850mmまで対応。(マイクロテック製)又、高精度画像処理によりアライメント。

印刷精度も10μm以下となっております。

真空リフロー(ギ酸漢検可能)導入!!!2020年10月導入

パワーデバイス開発やフラックスレス・ボイドフリー半田付けに最適な装置です。

フラックス残渣やはんだ飛散が許されないクリーンな接合を求められる用途に適した、真空リフロー方式のはんだ付け装置です。ギ酸処理によりはんだと基板の金属酸化膜を除去し、IRヒーターによる直接加熱と水冷ブロックによる強制冷却との組み合せにおいて温度を制御することで、ハイスピードなはんだ付けを行います。

画像認識付卓上塗布システム(武蔵エンジニアリング製)2020年8月導入

基板への塗布を高速高精度に行えます。高精細描画により生産性の向上を実現。

高精度位置補正などの充実機能も搭載!!

・ 3Dアライメント機能により、ワークの傾きに合わせたXYθ補正かつ、うねりに合わせたZ補正に対応。

・ 生産情報を自動でデータベースにロギング。生産ログによるトレーサビリティ対応。

・ エッジ検出機能搭載、アライメント対象が欠けなどにより形状が変化しても正確にアライメント認識。

・ 塗布プレビュー機能搭載、塗布イメージを表示。

・ 塗布パターン編集ソフトにより塗布プログラムをパソコン上で図形編集

 

チップマウンター・ダイボンダー兼用装置導入 2020年1月

これまでお断りしていた、フリップチップ対応。

ベアチップの実装やチップマウントもOK!!!

少量から量産まで対応致します。ペースト塗布、加熱も行えます。

0402チップにも対応します。

新規アルミ線用ワイヤーボンダーの導入 2018/4月

これまで対応出来なかった大型基板、アルミ太線、アルミリボン線に対応したボンダーを導入しました。

導入機種:K&S社製 ASTERION  

・ボンディングエリア 300mm×300mm 

・アルミ細線 Φ2580μm   (標準在庫:25μm

・アルミ太線 Φ100500μm  (標準在庫:300μm

・アルミリボン 0.5×0.1mm2.0×0.25mm   (標準在庫:1.0mm×0.1mm

2015年度よりHDD/SSD解析や耐久試験の設備を整え作業開始致しました。

HDD/SSDに限らず高温高湿試験・サイクル試験他のご要望にお答えします。

お問い合わせください。

評価・解析に関しては三映電子工業(株)様との連携事業です。

三映電子工業(株)様での豊富な実績が支援いたします。

2014/12/09追加

今回はここ3年で確立されてきた、厚膜印刷技術の紹介です。

アルミナに金などの印刷材料でパターン印刷を行い高耐熱、高放熱の電子回路基板を製作します。

2013/3/1追加
新規導入の設備としては真空シームシーラーの導入があります。
半導体セラミックパッケージなどのシール(蓋締め)、新たに真空シームシーラーを導入しました。
弊社既存の窒素パージシームシーラーでは行えなかった、半導体パッケージ内部を真空状態にて
シールすることが出来ます。大気圧、N2を嫌うパッケージ、MEMSや大気圏外などに使用の半導体に使用できます。
溶接条件も多様にコントロールできますので半導体パッケージ以外でも利用できそうなものがあれば

相談してください。

また、Agナノペーストの実験も続けています。 

【最新情報】

新規・自動厚膜印刷機導入!!!2022/4